本次会议上，TÜV莱茵、株洲中车、SEMILAB、北方华创、中图半导体、昂坤视觉、华海清科、长江存储、天科合达、苏州能讯、中电科第十三所、哈工大、润新微电子、安徽芯塔电子、南京大学、拓思精工、连科半导体、瀚天天成、浙江大学、西湖仪器、通美晶体、天岳先进、安捷伦科技、固高科技、天祥集团、中科半导体、拓思精工、中电科国基、瀚天天成、山西烁科、广东天域、常州臻晶、河北同光、杭州幄肯、先导稀材、江苏集能易新、长电科技、卓远半导体、上海上机、京仪装备、上海微电子、新阳半导体、鹏芯微、经纬开物等共计40余家企业及科研院所的近80余位委员及专家代表参加了会议。

会议过程中，经委员会审核，批准了由瑟米莱伯主导的《通过使用汞探针进行电容-电压测量来确定碳化硅外延晶片中净载流子密度分布的测试方法》以及由广东天域主导的《碳化硅同质外延片键合规范》正式新建立项。另外，经委员会表决，批准由常州臻晶主导的Doc.6767《碳化硅晶片平面度的光学干涉测试方法》和Doc.6769《碳化硅晶片残余应力光弹效应测试方法》废止。

本次会议上，经委员会的审议和投票，西湖仪器刘东立成功当选SEMI中国化合物半导体标准技术委员会核心委员。华灿光电王江波、株洲中车时代刘国友、株洲中车时代李诚瞻、瀚天天成冯淦、润新微电子王荣华、苏州能讯钱洪途、中科半导体刘志斌、长光华芯李顺峰、天科合达彭同华、安意法半导体张洁、臻晶半导体陆敏、安徽芯塔倪炜江、南京大学陈化冰到期成功续任。