更好的数据，更先进的智能制造: 半导体Interface A/EDA 标准的应用与效益研讨会
由SEMI中国主办、Cimetrix承办的“更好的数据，更先进的智能制造: 半导体Interface A/EDA 标准的应用与效益研讨会”于2020年1月10日在上海顺利召开。
SEMI 信息控制标准技术委员会制定的EDA 系列标准，为大数据和AI技术浪潮在半导体行业的应用提供了数据基础，目前已在全球范围内多家先进的工厂得到了应用。
来自全国各地多家芯片生产工厂、晶圆生产工厂、设备公司以及智能制造解决方案软件公司的四十多位专家，前来学习与讨论如何将半导体行业智能制造最前沿技术的Interface A/EDA引入到国内芯片生产环境。
会议由SEMI中国高级标准专员Isadora主持并介绍目前SEMI EDA/Interface A标准的发展历史及最新状态。
本次研讨会邀请了SEMI北美地区Information&Control信息控制标委会主席单位及EDA标准起草工作组组长单位，美国矽美科Cimetrix。矽美科中国智能制造解决方案顾问Clare女士介绍SEMI Interface A/EDA 标准的主要内容和目前在全球范围内使用的情况。
智能制造领域资深专家，Cimetrix 创新产品副总裁Alan Weber先生，为现场参会者介绍Interface A/EDA的工厂应用及效益，介绍各种应用所解决的问题，实现机制以及对KPI的影响。
下午Alan继续就Interface A/EDA标准的实施和应用与大家进行深入交流，阐述了设备实现Interface
A/EDA结构的最佳实践，为设备制造企业提供了指导建议，为工厂介绍了需求的制定流程和产生的结果。
整场研讨会的氛围轻松活跃，参会的专家们专注地听取报告，现场交流热烈，大家纷纷表示期待今后有更多这样的标准培训和讨论。